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	一种可提高图形深宽比的纳米压印方法及其产品
	王智浩; 刘文; 孙堂友; 左强
	2013-02-06
著作权人	华中科技大学
专利号	CN102910579A
国家	中国
文献子类	发明申请
其他题名	一种可提高图形深宽比的纳米压印方法及其产品
英文摘要	本发明公开了一种可提高图形深宽比的纳米压印方法，包括：（a）软、硬模板的准备步骤；（b）对半导体基片清洗干燥处理后在其表面上涂覆底胶并执行固化处理，接着在该底胶层上镀上硬掩膜层且底胶层与硬掩膜层之间的刻蚀选择比为10以上；（c）在硬掩膜层上涂覆光刻胶并经烘烤处理，然后利用软模板在压印胶层上形成所需的纳米图形；（d）通过多次干法刻蚀处理，分别去除压印胶层上的残胶、刻蚀硬掩膜层和底胶层，将所需的纳米图形依次向下转移；（e）利用底胶层上的图形作为掩膜在半导体基片上形成最终的纳米图形产品。通过本发明，可以显著提高底胶掩膜的深宽比并相应获得高深宽比的纳米图形，同时进一步提高所获得纳米图形的图像精细程度。
公开日期	2013-02-06
申请日期	2012-09-26
状态	失效
内容类型	专利
源URL	[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/90208]
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	华中科技大学
推荐引用方式 GB/T 7714	王智浩,刘文,孙堂友,等. 一种可提高图形深宽比的纳米压印方法及其产品. CN102910579A. 2013-02-06.

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