半導体光素子およびその製造方法
松舘 みつき
2009-08-06
著作权人NEC CORP
专利号JP2009176908A
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体光素子およびその製造方法
英文摘要【課題】劣化を確実に抑制することができる半導体光素子を提供すること。 【解決手段】半導体レーザ素子は、一方向に延在する導波路領域(通電領域A’)が形成された半導体層(活性層4)を有する。半導体層(活性層4)の下方には、半導体層(活性層4)の導波路領域(通電領域A’)を除く他の領域に面欠陥15を形成するための面欠陥発生誘導体10が複数離間して配置されている。半導体層(活性層4)表面側からの平面視において面欠陥発生誘導体10と、導波路領域(通電領域A’)とが離間配置されるとともに、導波路領域(通電領域A’)の延在方向に沿って複数の面欠陥発生誘導体10が点在している。 【選択図】図2
公开日期2009-08-06
申请日期2008-01-24
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/87807]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位NEC CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
松舘 みつき. 半導体光素子およびその製造方法. JP2009176908A. 2009-08-06.
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