一种1550nm长波长垂直腔面发射激光器的制备方法及其应用
李鸿强; 崔贝贝; 周文骞; 刘宇
2014-09-17
著作权人天津工业大学
专利号CN104051957A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名一种1550nm长波长垂直腔面发射激光器的制备方法及其应用
英文摘要本发明公开了一种InGaAsN/AlGaInAs量子阱为有源层的1550nm长波长垂直腔面发射激光器,其特点在于有源层为InP基的InGaAsN/AlGaInAs的QWs以及AlGaAsSb/AlAsSb作为DBR材料。它的谐振腔腔长为1λ以实现更好的出光效果。另外本发明采用双层氧化限制层的结构使面发射激光器在性能上进一步改善,提高了单模输出功率,实现1550nm的长波长传输。该激光器包括P型DBR层、有源层、N型DBR层、衬底、SiO2绝缘层、透明导电介质ZnO、P型电极和N型背面电极。整个结构在材料上是晶格匹配的,因此可以广泛的应用外延技术。本发明的垂直腔面发射激光器制造工艺简单,重复性好,容易推广。
公开日期2014-09-17
申请日期2014-06-23
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/85830]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位天津工业大学
推荐引用方式
GB/T 7714
李鸿强,崔贝贝,周文骞,等. 一种1550nm长波长垂直腔面发射激光器的制备方法及其应用. CN104051957A. 2014-09-17.
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