用分子束外延工艺制备Ⅱ型量子阱的方法及设备
冀子武; 郑雨军; 赵雪琴; 李炳生; 徐现刚
2009-09-23
著作权人山东大学
专利号CN101538700A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名用分子束外延工艺制备Ⅱ型量子阱的方法及设备
英文摘要用分子束外延工艺制备II型量子阱的方法及设备,在衬底上生长缓冲层、隔离层、势阱层、势垒层、势阱层、隔离层及覆盖层;使用的设备为双生长室分子束外延系统,包括III-V族和II-VI族两个生长室。每个均带有固体源蒸发器、五维可调样品架、四极质谱仪以及反射式高能电子衍射仪等;两生长室之间用超高真空传输管道连接以便样品的传送;超高真空传输管道备有抽气装置,且与两端所连接的两个生长室分别用插板阀隔开;样品架和固体源蒸发器都分别接有加热丝。本发明可用于光通信、量子信息存储和处理及半导体激光器等光电器件领域。
公开日期2009-09-23
申请日期2009-04-21
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/85623]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位山东大学
推荐引用方式
GB/T 7714
冀子武,郑雨军,赵雪琴,等. 用分子束外延工艺制备Ⅱ型量子阱的方法及设备. CN101538700A. 2009-09-23.
个性服务
查看访问统计
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。


©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by CSpace