半導体レーザおよび半導体レーザの製造方法
野澤 博; 佐々木 徹; 天明 二郎; 柴田 知尋; 須郷 満
2000-08-22
著作权人NIPPON TELEGR & TELEPH CORP
专利号JP2000232254A
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザおよび半導体レーザの製造方法
英文摘要【課題】低コストで簡単に作製できる高出力且つ高信頼性を具備した半導体レーザおよび半導体レーザの製造方法を提供する。 【解決手段】GaAlAsの下部クラッド層12、GaAsのバルク活性層13、GaAlAsの上部クラッド層14をGaAsの基板11上に成長させ、光出射端面周辺を下部クラッド層12に達する深さまでエッチングし、当該部分にアンドープGaAlAsの下部クラッド層15、アンドープGaAlAsのコア層16、アンドープGaAlAsの上部クラッド層17をMOVPE法により選択領域的に再成長させ、GaAlAsの上部クラッド層18およびGaAsのコンタクト層19を成長させた後、ECRプラズマエッチングにより光出射方向に沿って光導波路10を形成し、表面電極および裏面電極を形成して劈開したら、前端面に反射防止膜を形成し、後端面に高反射膜を形成する。
公开日期2000-08-22
申请日期1999-02-10
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/84102]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位NIPPON TELEGR & TELEPH CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
野澤 博,佐々木 徹,天明 二郎,等. 半導体レーザおよび半導体レーザの製造方法. JP2000232254A. 2000-08-22.
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