半導体レーザ
竹内 辰也
2000-03-31
著作权人FUJITSU LTD
专利号JP2000091702A
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ
英文摘要【課題】埋込型半導体レーザに関し、高出力化ならびに動作温度の高温化を図ること。 【解決手段】メサ状に形成されたn型クラッド層21,22 と、前記n型クラッド層21,22 の上に形成されたストライプ状の活性層23と、n型クラッド層21,22 の両側に形成され且つp型不純物が含有されたInP よりなる第1埋込層27,29 と、第1埋込層27,29 の中に形成されて、第1埋込層27,29 よりも濃度の高いp型不純物を含むAla Inb Gac Asd Pe (0≦a,b,c,d,e≦1)混晶半導体から構成される第2埋込層28と、活性層23の側方にあって第2埋込層28の上に形成されたn型電流ブロック層30と、n型電流ブロック層30及び活性層23の上に形成されたp型クラッド層24,32 を含む。
公开日期2000-03-31
申请日期1998-09-10
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/83825]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位FUJITSU LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
竹内 辰也. 半導体レーザ. JP2000091702A. 2000-03-31.
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