| 倒四棱锥台/四棱锥形状减反微纳结构的制造方法及系统 | |
| 李明; 李珣; 刘红军 | |
| 2020-11-17 | |
| 著作权人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 专利号 | CN201911386649.0 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明专利 |
| 产权排序 | 1 |
| 英文摘要 | 一种倒四棱锥台/四棱锥形状减反微纳结构的制造方法及系统，系统包括飞秒激光器、光路传输系统、矩形平顶整形单元和高倍率聚焦显微物镜。先根据系统的最优制造焦深，将倒四棱锥台/四棱锥形状分为n层，计算每一层的层面尺寸，调整系统使其焦面位于倒四棱锥台/四棱锥第1层的h/2位置处，用整形汇聚后的矩形平顶光，对该层加工；依次类推直至第n层。本发明解决现有技术控形能力差及加工能力受限的问题，采用按层面尺寸依次加工，得到深度在百微米级的减反微纳结构，提高了减反微纳结构的减反增透率；通过光斑整形按层面尺寸依次加工，提高了激光微纳加工的控形能力；自上而下加工，加工深径比更大。 |
| 公开日期 | 2020-04-24 |
| 申请日期 | 2019-12-29 |
| 语种 | 中文 |
| 状态 | 授权 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/94024]  |
| 专题 | 西安光学精密机械研究所_瞬态光学技术国家重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李明,李珣,刘红军. 倒四棱锥台/四棱锥形状减反微纳结构的制造方法及系统. CN201911386649.0. 2020-11-17. |
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