W过渡层结合界面对金刚石薄膜在WC—6%Co上的附着力的影响 | |
王传新3; 汪建华3; 满卫东3; 马志斌3; 王升高3; 康志成4 | |
刊名 | 高压物理学报
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2004 | |
卷号 | 018 |
关键词 | 复合材料 微波等离子体化学气相沉积装置 金刚石薄膜 附着力 钨过渡层 |
ISSN号 | 1000-5773 |
其他题名 | Effects of W Diffusion Barrier Layer for Diamond Coatings Deposited on WC-Co Substrates |
英文摘要 | 在微波等离子体化学气相沉积装置中,采用负偏压形核等方法,研究两种不同的W过渡层/基体结合界面对金刚石薄膜与WC—6%Co附着力的影响。采用氢等离子体脱碳、磁控溅射镀W、高偏压碳化等方法,在YG6衬底表面形成化学反应型界面,W膜在碳化时和基体WC连为一体,极大地增加了W膜与基体的附着力,明显优于直接镀钨、碳化形成的物理吸附界面。在高负偏压下碳化,能提高表面粗糙度,增加膜与基体机械钳合,而负偏压形核增加核密度,从而增加膜与基体的接触面积,结果极大地提高了金刚石薄膜的附着力。 |
语种 | 中文 |
CSCD记录号 | CSCD:1510975 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/96424] ![]() |
专题 | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
作者单位 | 1.武汉化工学院 2.中国科学院等离子体物理研究所 3.武汉化工学院 4.武汉化工学院 5.武汉化工学院 6.武汉化工学院 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王传新,汪建华,满卫东,等. W过渡层结合界面对金刚石薄膜在WC—6%Co上的附着力的影响[J]. 高压物理学报,2004,018. |
APA | 王传新,汪建华,满卫东,马志斌,王升高,&康志成.(2004).W过渡层结合界面对金刚石薄膜在WC—6%Co上的附着力的影响.高压物理学报,018. |
MLA | 王传新,et al."W过渡层结合界面对金刚石薄膜在WC—6%Co上的附着力的影响".高压物理学报 018(2004). |
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