磁场辅助等离子体增强化学气相沉积

	磁场辅助等离子体增强化学气相沉积
	陈家荣 1; 陈文锦 1; 邱凯 1; 马文霞 1
刊名	真空
	2007
卷号	044
关键词	PECVD 氮化硅磁场沉积速率折射率表面形貌
ISSN号	1002-0322
其他题名	Magnetic-field-aided plasma enhanced chemical vapor deposition
英文摘要	本文根据螺线管线圈内部磁场的分布规律，以及磁场对等离子体内部电子的作用原理，设计了磁场辅助的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）系统，并且研究了在PECVD系统中获得均匀磁场的方法。而后，以SiH4和N2为反应气体，在低气压下沉积了SiN薄膜。测量了SiN薄膜的沉积速率，折射率，表面形貌等参数。验证了磁场分布的均匀性，分析了磁场在等离子体增强化学气相沉积系统中的作用。
语种	中文
CSCD记录号	CSCD:2779388
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/50105]
专题	中国科学院合肥物质科学研究院
作者单位	1.中国科学院固体物理研究所 2.中国科学院固体物理研究所 3.中国科学院固体物理研究所 4.中国科学院固体物理研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	陈家荣,陈文锦,邱凯,等. 磁场辅助等离子体增强化学气相沉积[J]. 真空,2007,044.
APA	陈家荣,陈文锦,邱凯,&马文霞.(2007).磁场辅助等离子体增强化学气相沉积.真空,044.
MLA	陈家荣,et al."磁场辅助等离子体增强化学气相沉积".真空 044(2007).