总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响

	总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响
	王贺权 ; 巴德纯 ; 沈辉 ; 汪保卫 ; 闻立时
刊名	真空科学与技术学报
	2005
卷号	25 期号:1 页码:65-68
合作状况	其它
收录类别	其他
语种	中文
公开日期	2009-12-10 ; 2010-10-15
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.giec.ac.cn/handle/344007/494]
专题	中国科学院广州能源研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	王贺权,巴德纯,沈辉,等. 总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响[J]. 真空科学与技术学报,2005,25(1):65-68.
APA	王贺权,巴德纯,沈辉,汪保卫,&闻立时.(2005).总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响.真空科学与技术学报,25(1),65-68.
MLA	王贺权,et al."总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响".真空科学与技术学报 25.1(2005):65-68.