氧流量对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响

	氧流量对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响
	王贺权 ; 沈辉 ; 巴德纯 ; 汪保卫 ; 闻立时
刊名	中山大学学报：自然科学版
	2005
卷号	44 期号:6 页码:36-40
合作状况	其它
收录类别	其他
语种	中文
公开日期	2009-12-09 ; 2010-10-15
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.giec.ac.cn/handle/344007/417]
专题	中国科学院广州能源研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	王贺权,沈辉,巴德纯,等. 氧流量对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响[J]. 中山大学学报：自然科学版,2005,44(6):36-40.
APA	王贺权,沈辉,巴德纯,汪保卫,&闻立时.(2005).氧流量对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响.中山大学学报：自然科学版,44(6),36-40.
MLA	王贺权,et al."氧流量对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响".中山大学学报：自然科学版 44.6(2005):36-40.