氧流量对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 | |
王贺权 ; 沈辉 ; 巴德纯 ; 汪保卫 ; 闻立时 | |
刊名 | 中山大学学报:自然科学版
![]() |
2005 | |
卷号 | 44期号:6页码:36-40 |
合作状况 | 其它 |
收录类别 | 其他 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2009-12-09 ; 2010-10-15 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://ir.giec.ac.cn/handle/344007/417] ![]() |
专题 | 中国科学院广州能源研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王贺权,沈辉,巴德纯,等. 氧流量对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响[J]. 中山大学学报:自然科学版,2005,44(6):36-40. |
APA | 王贺权,沈辉,巴德纯,汪保卫,&闻立时.(2005).氧流量对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响.中山大学学报:自然科学版,44(6),36-40. |
MLA | 王贺权,et al."氧流量对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响".中山大学学报:自然科学版 44.6(2005):36-40. |
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