tialsin涂层界面微结构研究 | |
王更柱3; 陈添2; 解志文3; 宋晓航1; 高旭3; 于晓光3; 宋华3 | |
刊名 | 真空科学与技术学报 |
2015 | |
卷号 | 35期号:2页码:179 |
ISSN号 | 1672-7126 |
英文摘要 | 采用多元等离子体浸没离子注入与沉积装置制备Ti-Al-Si-N涂层,借助X射线衍射仪、X射线光电子能谱、透射电子显微镜、纳米探针和原子力显微镜等系统研究涂层界面微结构与力学性能。研究结果表明:Ti-Al-Si-N涂层具有Si_3N_4界面相包裹TiAIN纳米晶复合结构,Si元素掺杂诱发涂层发生明显晶粒细化效应。随涂层Si含量增加,TiAIN晶粒尺寸显著降低,界面Si_3N_4层厚度增加。当Si_3N_4界面层厚度小于1 nm并与TiAIN晶粒共格外延生长时,Ti-Al-Si-N涂层表现超高硬度约40 GPa,当Si_3N_4界面相厚度增至2 nm并呈非晶态存在时,涂层硬度降至约29 GPa。 |
语种 | 英语 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://119.78.100.138/handle/2HOD01W0/9263] |
专题 | 中国科学院重庆绿色智能技术研究院 |
作者单位 | 1.上海航天设备制造总厂 2.中国科学院重庆绿色智能技术研究院 3.辽宁科技大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王更柱,陈添,解志文,等. tialsin涂层界面微结构研究[J]. 真空科学与技术学报,2015,35(2):179. |
APA | 王更柱.,陈添.,解志文.,宋晓航.,高旭.,...&宋华.(2015).tialsin涂层界面微结构研究.真空科学与技术学报,35(2),179. |
MLA | 王更柱,et al."tialsin涂层界面微结构研究".真空科学与技术学报 35.2(2015):179. |
个性服务 |
查看访问统计 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论