表面活性剂在水溶液中聚集状态的^1H NMR研究

	表面活性剂在水溶液中聚集状态的^1H NMR研究
	俞稼镛 1; 杜有如 2; 岳勇 2; 姜立红 2; 赵濉 1
刊名	波谱学杂志
	1998
卷号	015 期号:002 页码:103
ISSN号	1000-4556
英文摘要	表面活性剂在水溶液中的自扩散系数，＾１Ｈ化学位移和自旋晶格弛豫的ＮＭＲ测量表明，上述参数随表面活性剂的浓度而变化，并在某一浓度开始有转折点。这一转折点恰好对应着各自的临界胶团浓度。
语种	英语
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.wipm.ac.cn/handle/112942/18318]
专题	中国科学院武汉物理与数学研究所
作者单位	1.中国科学院理化技术研究所 2.中国科学院武汉物理与数学研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	俞稼镛,杜有如,岳勇,等. 表面活性剂在水溶液中聚集状态的^1H NMR研究[J]. 波谱学杂志,1998,015(002):103.
APA	俞稼镛,杜有如,岳勇,姜立红,&赵濉.(1998).表面活性剂在水溶液中聚集状态的^1H NMR研究.波谱学杂志,015(002),103.
MLA	俞稼镛,et al."表面活性剂在水溶液中聚集状态的^1H NMR研究".波谱学杂志 015.002(1998):103.