窒化ガリウム系半導体レーザ素子
猪口 和彦
2008-07-03
著作权人SHARP CORP
专利号JP2008153703A
国家日本
文献子类发明申请
其他题名窒化ガリウム系半導体レーザ素子
英文摘要【課題】窒化物系化合物半導体レーザ装置では、良好な屈折率分布をもつ光導波路構造をもつ、高効率、且つ作成歩留まりの高い窒化ガリウム系半導体レーザ素子の作製をすることは困難であった。 【解決手段】本発明では、基板と、下部クラッド層と、活性層と、上部クラッド層とをこの順に有する窒化ガリウム系半導体レーザ素子において、前記上部クラッド層が共振器方向に伸延したリッジストライプ形状であり、p型電極が前記リッジストライプ上面に形成されていることを特徴とする窒化ガリウム系半導体レーザ素子を提供する。 【選択図】図1
公开日期2008-07-03
申请日期2008-03-10
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/82017]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位SHARP CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
猪口 和彦. 窒化ガリウム系半導体レーザ素子. JP2008153703A. 2008-07-03.
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