半導体素子
岸野 克巳; 野村 一郎; 玉村 好司; 田才 邦彦; 朝妻 庸紀; 中島 博; 中村 均; 藤崎 寿美子; 紀川 健
2010-02-25
著作权人SONY CORP
专利号JP2010045165A
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体素子
英文摘要【課題】n型クラッド層に要求される特性を有するn型クラッド層またはp型クラッド層に要求される特性を有するp型クラッド層を備えた半導体素子を提供する。 【解決手段】n型第1クラッド層12Aにおいて、n型キャリア密度をn型第2クラッド層12Bよりも高くし、かつ層厚をn型第2クラッド層12Bよりも厚くすることにより、n型クラッド層12全体のキャリア伝導性を確保する。n型第2クラッド層12Bにおいて、伝導帯サブレベル下端を活性層14よりも高くすることにより、キャリア閉じ込めに十分な電子障壁を確保し、さらにタイプII発光を抑制する。 【選択図】図2
公开日期2010-02-25
申请日期2008-08-12
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/78882]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位SONY CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
岸野 克巳,野村 一郎,玉村 好司,等. 半導体素子. JP2010045165A. 2010-02-25.
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