半導体発光素子及びその製造方法
松本 信一; 野口 悦男
1994-05-31
著作权人NIPPON TELEGR & TELEPH CORP
专利号JP1994152065A
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体発光素子及びその製造方法
英文摘要【目的】 庇を備えたマスクの作製といったプロセスを省略し、素子作製が容易な構造を備えた半絶縁性高抵抗層埋め込み構造半導体素子及びその製造方法を提供することを目的とする。 【構成】 電流阻止層部分において、半絶縁性高抵抗InP結晶と基板との間に、半絶縁性高抵抗InP結晶に対する選択エッチングが可能な半導体結晶からなるエッチングストッパ層を備え、基板と反対導電型のクラッド層の幅が活性層幅よりも広い構造であることを主要な特徴とする。
公开日期1994-05-31
申请日期1992-11-02
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/78798]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位NIPPON TELEGR & TELEPH CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
松本 信一,野口 悦男. 半導体発光素子及びその製造方法. JP1994152065A. 1994-05-31.
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