半導体レーザ素子及びその作製法
中塚 慎一; 野本 悦子; 上島 研一; 加藤 佳秋
1999-05-28
著作权人株式会社日立製作所
专利号JP1999145553A
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ素子及びその作製法
英文摘要【課題】 高出力の窓構造半導体レーザを再現性よく実現する。 【解決手段】 端面部のレーザストライプの周辺に亜鉛拡散を行い、混晶化領域の周辺への広がりを利用して窓構造を形成する。 【効果】 他のレーザ特性を劣化させずに良好な窓構造を形成できる。
公开日期1999-05-28
申请日期1997-11-10
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/78204]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位株式会社日立製作所
推荐引用方式
GB/T 7714
中塚 慎一,野本 悦子,上島 研一,等. 半導体レーザ素子及びその作製法. JP1999145553A. 1999-05-28.
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