一种垂直腔面发射激光器及其制作方法
张祥伟; 刘宝元; 陈靖; 聂亮; 陶禹; 韩峰; 吴玲玲; 郭荣礼
2018-10-16
著作权人西安工业大学
专利号CN108666868A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名一种垂直腔面发射激光器及其制作方法
英文摘要本发明公开了一种垂直腔面发射激光器及其制作方法,该激光器包括半导体衬底、主激光器和种子源激光器,所述主激光器包括由下至上依次布设的第一缓冲层、第一N面电流引导层、第一有源区、第一高铝层、第一P型分布式布拉格反射镜层和第一P面电流引导层;该方法包括以下步骤:一、半导体激光器芯片的生长;二、第一氧化限制层的制作;三、第一电流阻挡层、第一N面电极和第一P面电极的制作;四、第二氧化限制层的制作;五、第二电流阻挡层、第二N面电极和第二P面电极的制作。本发明结构简单、设计合理且体积小,通过种子源激光器提高主激光器输出高功率激光光束的光束质量,并能压缩激光线宽,实用性强。
公开日期2018-10-16
申请日期2018-07-31
状态申请中
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/73548]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位西安工业大学
推荐引用方式
GB/T 7714
张祥伟,刘宝元,陈靖,等. 一种垂直腔面发射激光器及其制作方法. CN108666868A. 2018-10-16.
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