一种垂直腔面发射激光器及其制备方法

	一种垂直腔面发射激光器及其制备方法
	赵勇明; 杨国文; 张艳春; 赵卫东
	2019-09-06
著作权人	度亘激光技术(苏州)有限公司
专利号	CN110212408A
国家	中国
文献子类	发明申请
其他题名	一种垂直腔面发射激光器及其制备方法
英文摘要	本发明公开了一种垂直腔面发射激光器及其制备方法，具体方法包括:提供衬底；依次在所述衬底上生长的至少两组分布布拉格反射镜；其中，至少一组所述分布布拉格反射镜相对于所述衬底的应变类型为张应变，且至少一组所述分布布拉格反射镜相对于所述衬底的应变类型为压应变。本发明通过生长所受应变类型为张应变的分布布拉格反射镜和所受应变类型为压应变的分布布拉格反射镜，通过调整分布布拉格反射镜周期数及应变量实现其应力的相互补偿，消除因晶格失配产生的应力，实现无应变VCSEL的生长，避免VCSEL出现翘曲的问题。
公开日期	2019-09-06
申请日期	2019-05-31
状态	申请中
内容类型	专利
源URL	[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/72557]
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	度亘激光技术(苏州)有限公司
推荐引用方式 GB/T 7714	赵勇明,杨国文,张艳春,等. 一种垂直腔面发射激光器及其制备方法. CN110212408A. 2019-09-06.