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	光源装置
	宮田 忠明; 木村 圭宏
	2019-01-10
著作权人	日亜化学工業株式会社
专利号	JP2019004025A
国家	日本
文献子类	发明申请
其他题名	光源装置
英文摘要	【課題】半導体レーザが載置された基板の上面に対して傾斜した高い反射率の反射面を備える光源装置を提供する。 【解決手段】光源装置2は、基板4と、基板の上面4Aに載置された半導体レーザと、半導体レーザから出射された光を反射する基板の上面に対して傾斜した反射面20Aを有する側壁部8と、側壁部の下面8Cに対向する領域に形成された金属膜である第1の接合膜30と、非金属面である側壁部の下面に形成された金属膜である第2の接合膜32と、第1の接合膜及び第2の接合膜の間を溶融接合する金属接合材34を備える。第1の接合膜及び第2の接合膜の反射面側の端部30A、32Aが、それぞれ反射面の下端部Q2から離間して配置され、第1の接合膜の反射面側の端部及び反射面の下端部の間の距離X1と、第2の接合膜の反射面側の端部及び反射面の下端部の間の距離X2とが異なる。 【選択図】図4
公开日期	2019-01-10
申请日期	2017-06-14
状态	申请中
内容类型	专利
源URL	[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/70325]
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	日亜化学工業株式会社
推荐引用方式 GB/T 7714	宮田 忠明,木村 圭宏. 光源装置. JP2019004025A. 2019-01-10.

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