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	発光装置、マルチビーム光源装置、マルチビーム走査装置及び画像形成装置
	廣居 正樹; 石井 稔浩; 山口 隆行
	2011-06-09
著作权人	株式会社リコー
专利号	JP2011114228A
国家	日本
文献子类	发明申请
其他题名	発光装置、マルチビーム光源装置、マルチビーム走査装置及び画像形成装置
英文摘要	【課題】パッケージに収容された発光素子アレイの各発光素子から出射された光ビームの戻り光が、近隣の発光素子に入射して及ぼす影響を低減できる発光装置を提供する。 【解決手段】同一平面に配列するように設けられ、各々が平面の一方の側に光ビームを出射する複数の発光素子を有する発光素子アレイ245と、一方の面に形成された、発光素子アレイ245を固定するための固定部246a-1を備え、発光素子アレイ245が固定部246a-1に固定されたパッケージ246-1と、発光素子アレイ245の出射面245a側に設けられ、発光素子アレイ245を保護する透明なカバー部材410とを有する。カバー部材410は、一の発光素子から出射された光ビームがカバー部材410に反射された反射光が、一の発光素子に隣接する発光素子に入射する方向と、平面に垂直な方向との角度が所定の角度以上になるように設けられたことを特徴とする。 【選択図】図7
公开日期	2011-06-09
申请日期	2009-11-27
状态	授权
内容类型	专利
源URL	[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/70042]
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	株式会社リコー
推荐引用方式 GB/T 7714	廣居 正樹,石井 稔浩,山口 隆行. 発光装置、マルチビーム光源装置、マルチビーム走査装置及び画像形成装置. JP2011114228A. 2011-06-09.

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