光走査装置および画像形成装置 | |
大谷 典孝; 谷口 元; 立部 秀成; 湯浅 崇史 | |
2013-03-15 | |
著作权人 | コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 |
专利号 | JP5218503B2 |
国家 | 日本 |
文献子类 | 授权发明 |
其他题名 | 光走査装置および画像形成装置 |
英文摘要 | 【課題】複数本の光ビームを偏向器で偏向して、画像形成装置の像担持体を同時に走査する構成において、環境変動に起因するビームピッチの粗密による画質劣化を抑制可能な光走査装置を提供すること。 【解決手段】コリメータレンズ62aを保持する水平部63aと、半導体レーザー61を保持する垂直部63bとからなる第1ホルダー63が、装置筐体の基底部50a上に、コリメータレンズ62aの光軸AYの周りに回転可能に保持される。 【選択図】図12 |
公开日期 | 2013-06-26 |
申请日期 | 2010-09-01 |
状态 | 授权 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/68354] |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 大谷 典孝,谷口 元,立部 秀成,等. 光走査装置および画像形成装置. JP5218503B2. 2013-03-15. |
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