一种掺钕氟化钇钆锂晶体及其生长方法
张作望; 吴少凡
2013-05-15
著作权人福建福晶科技股份有限公司
专利号CN103103610A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名一种掺钕氟化钇钆锂晶体及其生长方法
英文摘要本发明涉及一种掺钕氟化钇钆锂晶体及其生长方法,原理是在Nd:YLF晶体中掺入GdF3,其化学式为:Ndx:Y(1-x-y)GdyLiF4。其中x=0~0.02,y=0.005~0.1,Gd与Y是性质相近的稀土元素,Gd离子半径比Y离子半径大4%,刚好介于Nd3+与Y3+之间,大离子半径Gd3+的掺入部分替代Y3+进入晶格,减小了晶体的内部张力,同时减小Y3+附近刃型位错应变能,从而可以抑制位错的迁移和重排,从而降低位错的密度,即抑制小角晶界的形成,可以有效改善Nd:YLF晶体的光学均匀性,获得高光学质量,物理性优良的掺钕氟化钇钆锂晶体,其激光二极管泵浦光-光转换效率超过60%,该激光晶体采用提拉法进行生长,工艺简单,能够实现大规模低成本的批量生产。
公开日期2013-05-15
申请日期2012-12-24
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/67039]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位福建福晶科技股份有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
张作望,吴少凡. 一种掺钕氟化钇钆锂晶体及其生长方法. CN103103610A. 2013-05-15.
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