一种具有插入层量子阱半导体激光器的外延结构
马淑芳; 许并社; 李学敏; 韩蕊蕊; 田海军; 吴小强
2014-05-07
著作权人太原理工大学
专利号CN103779786A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名一种具有插入层量子阱半导体激光器的外延结构
英文摘要本发明涉及一种具有插入层量子阱半导体激光器的外延结构,本发明公开了一种具有特殊结构的半导体激光器的制备方法。该结构从下到上依次包括:GaAs衬底;GaAs缓冲层;AIGaAs下限制层;AIGaAs下波导层;有源层;AIGaAs上波导层;AIGaAs上限制层;GaAs覆盖层。在该结构中,有源层的量子阱和垒之间插入了一层薄的GaAs或InP或In组分含量较低(与量子阱中In组分相比较低)的InGaAs层,这可以有效缓解量子阱和垒之间的品格适配,提高界面质量,减小应力,获得较低的阈值电流密度,提升了半导体激光器件的光电性能。
公开日期2014-05-07
申请日期2013-12-12
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/66795]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位太原理工大学
推荐引用方式
GB/T 7714
马淑芳,许并社,李学敏,等. 一种具有插入层量子阱半导体激光器的外延结构. CN103779786A. 2014-05-07.
个性服务
查看访问统计
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。


©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by CSpace