通过内层电子激发由石墨制造钻石的方法 | |
吉田博; 中山博幸 | |
2005-08-17 | |
著作权人 | 独立行政法人科学技术振兴机构 |
专利号 | CN1656031A |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明申请 |
其他题名 | 通过内层电子激发由石墨制造钻石的方法 |
英文摘要 | 于常温、常压下,实现任一种的激发状态,采用此状态,若能使稳定构造由石墨构造逆转成钻石构造时,则采用激发状态,可简单的使石墨进行钻石化。此若予实现时,则可被期待应用于纳米技术或短波长高输出功半导体激光器,高输出功电子设备方面。在常压状态由照射放射线X射线、放射线、激光器光、电子射束或加速多价离子的任一种至使能激发构成由sp2构造而成的石墨的单晶或多晶的碳原子(C)的1s内层电子,由sp2构造的石墨制作出sp3构造的钻石为特征的钻石的制造方法。使价廉且大量的制造石墨单晶、多晶或纳米构造钻石成为可能的。 |
公开日期 | 2005-08-17 |
申请日期 | 2003-05-22 |
状态 | 失效 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/66412] ![]() |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 独立行政法人科学技术振兴机构 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 吉田博,中山博幸. 通过内层电子激发由石墨制造钻石的方法. CN1656031A. 2005-08-17. |
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