一种半导体激光吸收光谱气体分析方法及系统
王健; 顾海涛; 刘立鹏
2008-02-13
著作权人聚光科技(杭州)股份有限公司
专利号CN101122566A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名一种半导体激光吸收光谱气体分析方法及系统
英文摘要本发明公开了一种半导体激光吸收光谱气体分析方法,所述方法包括以下步骤:a.确定半导体激光器的工作温度范围和工作电流范围;b.确定半导体激光器的输出光频率范围,在该光频率范围内选择至少两条被测气体的吸收谱线,并确定与吸收谱线对应的工作温度区间;c.测得半导体激光器的工作环境温度T,确定半导体激光器的工作温度和拟使用的被测气体的吸收谱线;d.根据半导体激光器的工作温度和拟使用的吸收谱线,确定并调整半导体激光器的工作电流;e.半导体激光器发出的光穿过被测气体并被传感器接收;对接收到的光信号进行吸收光谱分析,得到被测气体的被测参数并显示。本发明还公开了一种用于实现上述方法的半导体激光吸收光谱气体分析系统。
公开日期2008-02-13
申请日期2007-05-31
状态授权
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/66382]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位聚光科技(杭州)股份有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
王健,顾海涛,刘立鹏. 一种半导体激光吸收光谱气体分析方法及系统. CN101122566A. 2008-02-13.
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