波长可调谐分布布拉格反射半导体激光器的制作方法
张靖; 赵玲娟; 王圩
2006-03-15
著作权人中国科学院半导体研究所
专利号CN1747264A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名波长可调谐分布布拉格反射半导体激光器的制作方法
英文摘要一种波长可调谐分布布拉格反射激光器的制作方法,包括:利用金属有机物化学气相淀积的方法在n型InP衬底上依次外延下限制层,多量子阱,上限制层,InP缓冲层;淀积介质膜;掩膜光刻制作注入保护图形,在增益区留下介质膜,其余区域腐蚀掉介质膜;进行P离子注入,然后腐蚀掉表面剩下的介质膜;在表面重新淀积介质膜;快速热退火;腐蚀掉介质膜7,InP缓冲层;在波导区制作光栅;刻蚀阻止层;制作脊型结构,形成波导;利用掩膜光刻,并进行光刻腐蚀,形成隔离沟,大面积淀积SiO2层,并进行He离子注入使隔离沟成为高阻区;在脊形条上开电极窗口,溅射P面电极,减薄后,背面蒸发N面电极;解理出单个波长可调谐分布布拉格反射激光器管芯。
公开日期2006-03-15
申请日期2004-09-06
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/65526]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院半导体研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
张靖,赵玲娟,王圩. 波长可调谐分布布拉格反射半导体激光器的制作方法. CN1747264A. 2006-03-15.
个性服务
查看访问统计
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。


©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by CSpace