一种BCB掩埋高速DFB半导体激光器的制备方法
薛贤铨
2017-08-15
著作权人厦门市芯诺通讯科技有限公司
专利号CN107046227A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名一种BCB掩埋高速DFB半导体激光器的制备方法
英文摘要本发明提供一种BCB掩埋高速DFB半导体激光器的制备方法,包括以下步骤在基片的衬底层上一次外延生长出外延层,得到片子;再对所述片子进行光栅的制备,并对所述光栅进行外延生长成外延片;2.对所述外延片进行光刻、干法刻蚀和湿法腐蚀,形成具有到台面的脊形波导结构,所述脊形波导结构的各壁均呈现开口朝外的圆弧状;进行湿法腐蚀至所述外延层的缓冲层上;在所述外延片通过PECVD生长SiO2钝化层,之后对所述外延片进行BCB胶的填充呈初成品;3.对所述初成品表面进行常规光刻、显影,去除所述波导层表面和圆弧区域缓冲层表面区域的BCB胶,并刻蚀去除该区域表面的钝化层形成金属覆盖区,一次性蒸镀P型和N型金属呈半成品;4.对所述半成品进行工艺加工。
公开日期2017-08-15
申请日期2017-05-16
状态申请中
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/65033]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位厦门市芯诺通讯科技有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
薛贤铨. 一种BCB掩埋高速DFB半导体激光器的制备方法. CN107046227A. 2017-08-15.
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