| 基板、光学装置及び画像形成装置 | |
| 若宮 秀洋 | |
| 2019-01-17 | |
| 著作权人 | キヤノン株式会社 |
| 专利号 | JP2019009394A |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 基板、光学装置及び画像形成装置 |
| 英文摘要 | 【課題】ICを実装するための基準マークを基板上に配置する構成においては、基準マークの位置によっては配線パターンが基準マークを回避するように配置されるため、配線パターンが長くなる可能性がある。これにより、配線パターンから発生する放射ノイズが大きくなってしまうという可能性があった。 【解決手段】レーザ制御IC226は、4つの辺と4つの角からなり、4つの辺にはそれぞれ端子が備えられる。レーザダイオード211とレーザ制御IC226を接続するための配線パターンは、レーザダイオード211に最も近い第1の角104をなす第1の辺及び又は第2の辺に配置され、第1の基準マーク106及び第2の基準マーク108は、レーザ制御IC226の第1の角104とは異なる第2の角107と、第2の角107と対向する第3の角109を結んだ直線上に配置されている。 【選択図】図1 |
| 公开日期 | 2019-01-17 |
| 申请日期 | 2017-06-28 |
| 状态 | 申请中 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/59156]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | キヤノン株式会社 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 若宮 秀洋. 基板、光学装置及び画像形成装置. JP2019009394A. 2019-01-17. |
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