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	先進材料処理応用のためのピコ秒-ナノ秒パルス用高エネルギ光ファイバ増幅器
	マーチン イー ファーマン; イングマー ハール; ジェナディ イメシェフ; ラジェッシュ エス パテル
	2010-12-16
著作权人	イムラ アメリカ インコーポレイテッド
专利号	JP2010283392A
国家	日本
文献子类	发明申请
其他题名	先進材料処理応用のためのピコ秒-ナノ秒パルス用高エネルギ光ファイバ増幅器
英文摘要	【課題】高エネルギピコ秒、ナノ秒パルス用ファイバベース光源の構築を目的とする。 【解決手段】ファイバ増幅器での非線形エネルギ制限を最小化することで、光ファイバの損傷閾値に近いパルスエネルギが発生され得る。少なくとも一つの非線形ファイバ増幅器を含む増幅器チェーンと共に最適化されたシード光源を実施することは、バンド幅制限近い高エネルギピコ秒パルスの発生を可能にする。高エネルギパルス化されるファイバ増幅器の最適化シード光源は、半導体レーザも伸長モードロックファイバレーザも含む。ファイバ増幅器から得られるパルスエネルギの最大化は、さらに高繰り返し周期で高エネルギ紫外、赤外パルスの発生を可能にする。 【選択図】図1
公开日期	2010-12-16
申请日期	2010-09-17
状态	失效
内容类型	专利
源URL	[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/58572]
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	イムラ アメリカ インコーポレイテッド
推荐引用方式 GB/T 7714	マーチン イー ファーマン,イングマー ハール,ジェナディ イメシェフ,等. 先進材料処理応用のためのピコ秒-ナノ秒パルス用高エネルギ光ファイバ増幅器. JP2010283392A. 2010-12-16.

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