| 垂直共振腔面射型雷射之製造方法 | |
| 植田崇資; 鈴木新; 關仁士 | |
| 2016-02-16 | |
| 著作权人 | 村田製作所股份有限公司 |
| 专利号 | TW201607190A |
| 国家 | 中国台湾 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 垂直共振腔面射型雷射之製造方法 |
| 英文摘要 | 在藉由加熱水蒸氣氧化之方法形成電流狹窄層時，相較於以往使基板內之氧化分布均勻化。 在垂直共振腔面射型雷射之製造方法，藉由加工包含被氧化層之積層體使被氧化層之側面露出後，藉由加熱水蒸氣氧化步驟形成電流狹窄層。加熱水蒸氣氧化步驟，包含：在設在能使內部氣密之腔室101之內部之載台102載置具有加工後之積層體之基板110之步驟；在腔室101外部之純水槽122，藉由在真空環境氣氛中加熱純水產生水蒸氣氣體之步驟；以及以控制流量之方式將水蒸氣氣體往成為真空環境氣氛之腔室101內供應之步驟。 |
| 公开日期 | 2016-02-16 |
| 申请日期 | 2015-06-22 |
| 状态 | 授权 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/57819]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 村田製作所股份有限公司 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 植田崇資,鈴木新,關仁士. 垂直共振腔面射型雷射之製造方法. TW201607190A. 2016-02-16. |
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