含有衍生自乙烯基醚化合物的结构单元的化合物 | |
盐田大; 野田国宏; 千坂博树 | |
2015-11-18 | |
著作权人 | 东京应化工业株式会社 |
专利号 | CN105073699A |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明申请 |
其他题名 | 含有衍生自乙烯基醚化合物的结构单元的化合物 |
英文摘要 | 提供新型含有衍生自乙烯基醚化合物的结构单元的化合物、其制造方法、含有上述化合物的组合物、包含上述组合物的光学元件密封剂、用上述密封剂密封的光学元件、以及将作为聚合物的上述化合物成形而成的成形体。本发明所涉及的化合物含有式(1)所示结构单元。式中,环Z1、Z2、Y1和Y2是芳香族烃环,X1和X2是单键或-S-基团,R是单键或特定的二价基团,R1a和R1b是单键或碳原子数1~4的亚烷基,R2a和R2b是一价烃基等特定取代基,R3a和R3b是氰基、卤素原子或一价烃基,m1和m2是0以上的整数,n1和n2是0~4的整数,V1是式(a1)~(a3)所示基团,V2是式(a1)~(a4)所示基团。式(a1)~(a4)中,*是键合端、**和***是与氧原子的键合端。 |
公开日期 | 2015-11-18 |
申请日期 | 2014-03-28 |
状态 | 授权 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/55989] |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 东京应化工业株式会社 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 盐田大,野田国宏,千坂博树. 含有衍生自乙烯基醚化合物的结构单元的化合物. CN105073699A. 2015-11-18. |
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