单颗可变色阵列型VCSEL芯片及其制造方法
窦志珍; 曹广亮; 刘留; 苏小平
2019-08-30
著作权人威科赛乐微电子股份有限公司
专利号CN110190515A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名单颗可变色阵列型VCSEL芯片及其制造方法
英文摘要本发明公开了单颗可变色阵列型VCSEL芯片及其制造方法,VCSEL芯片包括量子阱、第一过渡层和第二过渡层;第一过渡层上设置有第一GaAs柱,第一GaAs柱上独立生长有ODR层,ODR层被蚀刻形成第一台柱,第一台柱蒸镀有镜面层,三个第一台柱的镜面层上覆盖有同一外延片键合层,且外延片键合层覆盖镜面层外侧直至第一过渡层,外延片键合层上设置有Si片、P‑contact;第二过渡层上设置有三个独立的第二GaAs柱,第二GaAs柱上生长有DBR层,DBR层被蚀刻形成第二台柱,第二台柱蒸镀有N‑contact,N‑contact在第二台柱的顶面设有出光孔。本发明的VCSEL芯片采用“过渡层+MQW+过渡层”结构提高了载流子密度,使VCSEL受激发时功率效率提高,使用ITO层使电流扩展更加均匀,减少了横模的产生。
公开日期2019-08-30
申请日期2019-06-18
状态申请中
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/55490]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位威科赛乐微电子股份有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
窦志珍,曹广亮,刘留,等. 单颗可变色阵列型VCSEL芯片及其制造方法. CN110190515A. 2019-08-30.
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