| レーザ面の作成方法および装置 | |
| クリスチヤン·ブルウエ; ドミニク·ボコン-ジボ; シルベヌ·ケルブフ | |
| 1997-07-31 | |
| 著作权人 | ALCATEL ALSTHOM COMPAGNIE GENERALE D’ELECTRICITE |
| 专利号 | JP1997199809A |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | レーザ面の作成方法および装置 |
| 英文摘要 | 【課題】 安価な面の作成方法を実現し、過度に低い酸素分圧を得る必要なしに充分に低い酸素割合を得るために、充分に速く不動態化材料の堆積が可能な不動態化方法を選択し、最良の結果が得られる操作条件を定義する。 【解決手段】 レーザ面を開ける操作と、2.10-7ないし10-8mbar程度の圧力の容器中に入れた前記レーザ面に、パルスレーザの照射によりクリーニング段階を施す操作と、3.同じパルスレーザを使用して、レーザアブラッションと呼ばれる方法によってケイ素Siまたは窒化ガリウムGaNの堆積により、前記面に、2ないし20オングストロームの厚さが得られるまで、パッシベーション操作を施す操作とを含むことを特徴とするIII-IV族を主成分とするレーザ、とりわけGaAs/GaAlAsポンプレーザ面の作成方法。 |
| 公开日期 | 1997-07-31 |
| 申请日期 | 1996-12-11 |
| 状态 | 失效 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/51063]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | ALCATEL ALSTHOM COMPAGNIE GENERALE D’ELECTRICITE |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | クリスチヤン·ブルウエ,ドミニク·ボコン-ジボ,シルベヌ·ケルブフ. レーザ面の作成方法および装置. JP1997199809A. 1997-07-31. |
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