電極構造
寺口 信明
1999-04-09
著作权人シャープ株式会社
专利号JP1999097744A
国家日本
文献子类发明申请
其他题名電極構造
英文摘要【課題】 p型AlxGayIn1-x-yN(0≦x≦1、0≦y≦1、x+y≦1)半導体に対して良好なオーミック接触が得られる電極構造とする。 【解決手段】 Mgを含むAlxGayIn1-x-yN(0≦x≦1、0≦y≦1、x+y≦1)半導体層上61に、少なくとも1種類以上の水素貯蔵金属を含む層を有することにより、金属水素化物層が形成され、その結果Mg原子と結合している水素が引き寄せられ、表面近傍63のMg原子がアクセプタ不純物として活性化される。半導体層/電極界面63ではコンタクト層として十分な高キャリア濃度が得られ、極めて小さいオーミック接触抵抗が実現できる。
公开日期1999-04-09
申请日期1994-07-19
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/50901]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位シャープ株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
寺口 信明. 電極構造. JP1999097744A. 1999-04-09.
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