多ビーム半導体レーザーの製造方法
ジョン·アール·アンドリュース; ジョージ·エイ·ネビル·コネル
1994-12-02
著作权人ゼロックス·コーポレーション
专利号JP1994334275A
国家日本
文献子类发明申请
其他题名多ビーム半導体レーザーの製造方法
英文摘要【目的】 近接して隔置されるが、熱的、電気的及び光学的に相互に分離された複数個の半導体レーザー·チップから多ダイオード·レーザーを製造する方法を提供すること。 【構成】 それぞれ一対の支持ヒートシンクに固定された第1及び第2半導体レーザー·ダイスがレーザーに含まれる多ビーム半導体レーザーを製造する方法。本方法では、サンドイッチ状素子を形成すべく中間スペーサーの反対側上にて相互に支持ヒートシンクを正確に位置付けるラミネート化方法を利用する。サンドイッチ状素子をベース·プレートに永久的に固定した後、中間スペーサーが溶かされるか若しくは除去されてレーザー·ダイスに対して設置面を露呈させる。本方法は、位置誤差を低減すべく相互に対するヒートシンクの正確な設置を可能にするだけでなく,後続の多段階レーザー·ビーム整合作動の必要性を無くす。
公开日期1994-12-02
申请日期1994-04-28
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/50889]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位ゼロックス·コーポレーション
推荐引用方式
GB/T 7714
ジョン·アール·アンドリュース,ジョージ·エイ·ネビル·コネル. 多ビーム半導体レーザーの製造方法. JP1994334275A. 1994-12-02.
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