半導体レーザの作製方法
アルフレッド イー チョー; サン-ニー ジョージ チュ; クオチョウ タイ; エオン-ハー ワン
1994-03-29
著作权人アメリカン テレフォン アンド テレグラフ カムパニー
专利号JP1994090057A
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザの作製方法
英文摘要【目的】 本発明は、レーザ空胴を少なくとも1つの分布ブラッグ反射器(DBR)に結合することを含む垂直空胴面発光レーザの作製方法に関する。 【構成】 方法はガリウム砒素基板(10)上に組成が交互になった少なくとも10層を有する分布ブラッグ反射器(30、70)を成長させることを含む。基板の成長面は(100)面方向から(111)A面方向へ1°-7°の角だけ傾いている。これにより、結果としてDBRの反射率が改善される。
公开日期1994-03-29
申请日期1991-12-13
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/50743]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位アメリカン テレフォン アンド テレグラフ カムパニー
推荐引用方式
GB/T 7714
アルフレッド イー チョー,サン-ニー ジョージ チュ,クオチョウ タイ,等. 半導体レーザの作製方法. JP1994090057A. 1994-03-29.
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