一种半导体激光透过率分析系统
熊志才; 顾海涛; 王健
2008-06-18
著作权人聚光科技(杭州)有限公司
专利号CN201075085Y
国家中国
文献子类实用新型
其他题名一种半导体激光透过率分析系统
英文摘要本实用新型公开了一种半导体激光透过率分析系统,包括光发射单元、光接收单元和信号分析单元,所述光发射单元和光接收单元安装在被测介质的一侧或两侧;所述光发射单元包括半导体激光器、第一会聚透镜;所述第一会聚透镜相对半导体激光器的一端为斜面;所述半导体激光器与所述第一会聚透镜之间激光束主光线光程小于或等于7mm;所述第一会聚透镜的中间部分的A-A截面为任意几何形状,所述截面的最小覆盖圆的直径大于或等于25mm;所述半导体激光器发出的光通过所述第一会聚透镜后进入被测介质。本实用新型还公开了另外一种半导体激光透过率分析系统。
公开日期2008-06-18
申请日期2007-08-03
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/50324]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位聚光科技(杭州)有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
熊志才,顾海涛,王健. 一种半导体激光透过率分析系统. CN201075085Y. 2008-06-18.
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