生长在硅/石墨烯复合衬底上的InGaN/GaN多量子阱纳米柱
李国强; 高芳亮; 张曙光; 徐珍珠; 余粤锋
2019-03-01
著作权人华南理工大学
专利号CN208570525U
国家中国
文献子类实用新型
其他题名生长在硅/石墨烯复合衬底上的InGaN/GaN多量子阱纳米柱
英文摘要本实用新型公开了生长在硅/石墨烯复合衬底上的InGaN/GaN多量子阱纳米柱,该InGaN/GaN多量子阱纳米柱包括Si/石墨烯复合衬底、生长在Si/石墨烯复合衬底上的n型掺杂GaN纳米柱,生长在n型掺杂GaN纳米柱顶部上的InGaN/GaN多量子阱,生长在InGaN/GaN多量子阱顶部的p型掺杂GaN纳米柱。本实用新型的制备方法具有生长工艺简单,制备成本低廉的优点,且制备的InGaN/GaN多量子阱纳米柱缺陷密度低、结晶质量好,电学、光学性能好。
公开日期2019-03-01
申请日期2018-06-30
状态授权
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/49362]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位华南理工大学
推荐引用方式
GB/T 7714
李国强,高芳亮,张曙光,等. 生长在硅/石墨烯复合衬底上的InGaN/GaN多量子阱纳米柱. CN208570525U. 2019-03-01.
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