共腔双波长分布反馈激光器的制作方法 | |
邓秋芳; 朱洪亮; 许俊杰; 梁松 | |
2018-06-29 | |
著作权人 | 中国科学院半导体研究所 |
专利号 | CN105406355B |
国家 | 中国 |
文献子类 | 授权发明 |
其他题名 | 共腔双波长分布反馈激光器的制作方法 |
英文摘要 | 一种共腔双波长分布反馈激光器的制备方法,该方法包括如下步骤:步骤1:在掺杂磷化铟衬底上制作下层光栅;步骤2:在下层光栅上外延生长下光栅覆盖层和有源区层;步骤3:在有源区层上制作上层光栅;步骤4:在上层光栅上外延生长掺杂磷化铟盖层和重掺杂欧姆接触层;步骤5:按标准激光器管芯工艺完成后续制作。本发明相比现有技术的双模DFB激光器,其主要区别为光栅的制作方式,是在共腔有源区的下层和上层制作出两套不同周期的DFB光栅,从而达到同时输出两个DFB波长的效果。 |
公开日期 | 2018-06-29 |
申请日期 | 2015-12-22 |
状态 | 授权 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/49303] ![]() |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 中国科学院半导体研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 邓秋芳,朱洪亮,许俊杰,等. 共腔双波长分布反馈激光器的制作方法. CN105406355B. 2018-06-29. |
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