与标准集成电路工艺兼容的硅基DBR激光器及其工艺
陈弘达; 刘海军; 高鹏; 顾明
2008-02-13
著作权人中国科学院半导体研究所
专利号CN100369339C
国家中国
文献子类授权发明
其他题名与标准集成电路工艺兼容的硅基DBR激光器及其工艺
英文摘要本发明涉及半导体发光器件技术领域,特别是一种与标准集成电路工艺兼容的硅基DBR激光器及其工艺。本发明采用SOI晶片为衬底,利用与标准集成电路工艺兼容的工艺制作,有源区采用PN结发光二极管结构,有源区两侧的无源区内分别设置DBR布拉格全反射器和DBR半反射器,构成谐振腔。
公开日期2008-02-13
申请日期2005-09-28
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/49247]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院半导体研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
陈弘达,刘海军,高鹏,等. 与标准集成电路工艺兼容的硅基DBR激光器及其工艺. CN100369339C. 2008-02-13.
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