非对称结构的无铝有源区808nm大功率量子阱激光器
李沛旭; 李树强; 夏伟; 张新; 汤庆敏; 任忠祥; 徐现刚
2009-12-23
著作权人山东华光光电子股份有限公司
专利号CN100574027C
国家中国
文献子类授权发明
其他题名非对称结构的无铝有源区808nm大功率量子阱激光器
英文摘要本发明提供了一种非对称结构的无铝有源区808nm大功率量子阱激光器,其结构由下至上依次包括衬底、缓冲层、N型下限制层、下波导层、量子阱层、上波导层、势垒限制层、P型上限制层、过渡层和欧姆接触层,上波导层和下波导层采用无铝材料镓铟磷,量子阱层为铟镓砷磷材料,波导层和量子阱层共同组成无铝有源区,上限制层与上波导层之间具有一层厚度为50nm-150nm、带隙宽于上限制层并由P型铝镓铟磷材料形成的势垒限制层。本发明能够增加P型材料区的光限制因子,降低光向P型材料区的泄漏,减少高掺杂区的载流子光吸收损耗,提高激光器的工作效率,同时该结构提高了有源区对载流子的限制作用,降低了载流子的泄漏,也有利于阈值电流的减小。
公开日期2009-12-23
申请日期2008-08-11
状态授权
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/49228]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位山东华光光电子股份有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
李沛旭,李树强,夏伟,等. 非对称结构的无铝有源区808nm大功率量子阱激光器. CN100574027C. 2009-12-23.
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