MgIn2O4/MgO复合衬底材料及其制备方法
徐军; 周圣明; 杨卫桥; 彭观良; 李抒智; 周国清; 宋词; 杭寅; 蒋成勇; 赵广军
2005-07-13
著作权人中国科学院上海光学精密机械研究所
专利号CN1210817C
国家中国
文献子类授权发明
其他题名MgIn2O4/MgO复合衬底材料及其制备方法
英文摘要一种MgIn2O4/MgO复合衬底材料及其制备方法,该复合衬底材料是在MgO单晶上设有一层MgIn2O4覆盖层构成。该复合衬底材料的制备方法是:先利用脉冲激光淀积方法在MgO单晶衬底上制备In2O3薄膜,然后在高温下,通过In2O3与MgO的固相反应,在MgO单晶衬底上形成MgIn2O4覆盖层。本发明的复合衬底材料的制备工艺简单、易操作,此种结构的复合衬底(MgIn2O4/MgO)适合于高质量GaN的外延生长。
公开日期2005-07-13
申请日期2003-07-29
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/49221]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院上海光学精密机械研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
徐军,周圣明,杨卫桥,等. MgIn2O4/MgO复合衬底材料及其制备方法. CN1210817C. 2005-07-13.
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