一种基于深刻蚀槽的多段式FP腔单波长激光器
王磊; 王寅; 杨友光; 何建军
2013-03-13
著作权人浙江大学
专利号CN102545045B
国家中国
文献子类授权发明
其他题名一种基于深刻蚀槽的多段式FP腔单波长激光器
英文摘要本发明公开了一种基于深刻蚀槽的多段式FP腔单波长激光器,其结构至少包括激光器波导、分别位于其两端的第一深刻蚀反射面、第二深刻蚀反射面和分布于其间的深刻蚀槽阵列;深刻蚀槽阵列由2-6个深刻蚀槽组成。激光器制作在半导体外延片上,从下往上分别包括下包层,量子阱层和上包层以及以上所述各层之间的一些辅助层;激光器波导被深刻蚀槽阵列、第一深刻蚀反射面和第二深刻蚀反射面分割成数段独立的波导,每段波导上覆盖有电极,电极上分别注入电流实现对激光器波长和功率的控制;本发明与背景技术相比,仅需要一次外延生长使得生产工序更加简单便宜,制作误差更小;器件运行所需能量损耗更少;激光线宽窄。
公开日期2013-03-13
申请日期2012-02-15
状态授权
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/48222]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位浙江大学
推荐引用方式
GB/T 7714
王磊,王寅,杨友光,等. 一种基于深刻蚀槽的多段式FP腔单波长激光器. CN102545045B. 2013-03-13.
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