基于微结构硅波导选频的混合硅单模环形腔激光器
张冶金; 王海玲; 渠红伟; 马绍栋; 郑婉华
2014
著作权人中国科学院半导体研究所
专利号CN102856789B
国家中国
文献子类授权发明
其他题名基于微结构硅波导选频的混合硅单模环形腔激光器
英文摘要一种基于微结构硅波导选频的混合硅单模环形腔激光器,包括:一硅衬底;一二氧化硅层制作在硅衬底之上;一硅环状波导层制作在二氧化硅层之上;一键合缓冲层制作在硅波导层上;一N型接触层制作在键合缓冲层之上;一N型电极制作在N型接触层之上的中间;一环状量子阱有源区制作在N型电极的环状部分之内,N型接触层之上;一P型环状接触层制作在环状量子阱有源区之上;一P型环状盖层制作在P型环状接触层之上;一环状P型电极制作在环状P型盖层之上。本发明该结构在高密度集成,单纵模工作,高效耦合输出。更重要的是在工艺加工中省去通常的DFB分布反馈光栅制作及III-V族材料二次外延等工艺步骤,降低复杂性。
公开日期2014
申请日期2012-09-19
状态授权
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/48215]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院半导体研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
张冶金,王海玲,渠红伟,等. 基于微结构硅波导选频的混合硅单模环形腔激光器. CN102856789B. 2014-01-01.
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