半导体激光正弦相位调制干涉仪调制深度的测量方法
王渤帆; 李中梁; 王向朝
2013-11-20
著作权人中国科学院上海光学精密机械研究所
专利号CN102288387B
国家中国
文献子类授权发明
其他题名半导体激光正弦相位调制干涉仪调制深度的测量方法
英文摘要一种半导体激光正弦相位调制干涉仪调制深度的测量方法,所述的干涉仪结构包括光源、隔离器、光纤耦合器、准直器、光电探测器和信号处理器。光电探测器将接收到的干涉信号转换成电信号与光源驱动电源的电压信号一起输入信号处理器内进行数据处理,得到正弦相位调制深度。本发明的测量方法,考虑了光源光强调制的影响,可在干涉仪初始光程差和光源波长调制系数未知的条件下,实时地确定正弦相位调制深度。
公开日期2013-11-20
申请日期2011-04-26
状态授权
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/46788]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院上海光学精密机械研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
王渤帆,李中梁,王向朝. 半导体激光正弦相位调制干涉仪调制深度的测量方法. CN102288387B. 2013-11-20.
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