气体的光谱分析装置
森下淳一; 石原良夫; 吴尚谦
2003-07-16
著作权人日本酸素株式会社
专利号CN1114826C
国家中国
文献子类授权发明
其他题名气体的光谱分析装置
英文摘要在通过使频率被调制的半导体激光透过减压状态的被测定气体来得到光吸收强度的2次微分谱来分析被测定气体中的微量杂质的气体的光谱分析装置中,设置根据半导体激光器(11)的特性控制激光的调制振幅用的调制振幅运算装置(1)、对由测定得到的2次微分谱中的峰的左右的极小值的波长间隔和峰的吸收强度进行运算的谱运算装置(2)和控制测定用气体单元(14)内的压力以使由谱运算装置(2)得到的吸收强度的值为最大用的压力调整装置(3)。设定激光的调制振幅的最佳值,使得2次微分谱中的峰的左右的极小值的波长宽度为0.0116nm。将调制振幅设定为最佳值,使测定压力最佳化。
公开日期2003-07-16
申请日期1999-03-05
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/45530]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位日本酸素株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
森下淳一,石原良夫,吴尚谦. 气体的光谱分析装置. CN1114826C. 2003-07-16.
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