一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统

	一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统
	王敏; 王警卫; 蔡万绍; 刘兴胜
	2016-10-05
著作权人	西安炬光科技股份有限公司
专利号	CN103545716B
国家	中国
文献子类	授权发明
其他题名	一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统
英文摘要	本发明提供一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统，该系统能够完全消除激光加工中反馈光沿入射光路反射回激光器中，降低反馈光对半导体激光器输出性能以及寿命的影响。该高功率半导体激光加工光源系统的所有巴条偏振态一致，均为TM（或TE）；在半导体激光器叠阵出光方向设置有偏振合束片，所述偏振合束片对TM（或TE）光进行透射，对TE（或TM）光进行反射；在偏振合束片后设置四分之一波片或者两个八分之一波片，用以将光的偏振态旋转45°；在反方向经偏振合束片反射形成的光路上设置有吸光板。
公开日期	2016-10-05
申请日期	2013-10-29
状态	授权
内容类型	专利
源URL	[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/45028]
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	西安炬光科技股份有限公司
推荐引用方式 GB/T 7714	王敏,王警卫,蔡万绍,等. 一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统. CN103545716B. 2016-10-05.