一种激光基质晶体材料及其制备方法和应用
徐军; 郑丽和; 王庆国; 苏良碧; 李红军
2014-07-16
著作权人中国科学院上海硅酸盐研究所
专利号CN102400223B
国家中国
文献子类授权发明
其他题名一种激光基质晶体材料及其制备方法和应用
英文摘要本发明公开了一种激光基质晶体材料及其制备方法和应用。所述的晶体材料具有如下通式:(ScxY1-x)2SiO5,其中0<x<1。该晶体材料的制备包括如下步骤:首先按照化学计量比称取各组分,混合均匀并压制成型,然后进行煅烧;再采用提拉法进行晶体生长。本发明提供的激光基质晶体材料具有负折射率温度系数,能够有效解决现有的激光基质晶体材料存在的热透镜效应的缺陷问题,而且具有优良的热力学性能,可应用于制备激光二极管或泵浦的波长可调谐或超短脉冲的全固态激光器;另外,本发明的制备方法简单,制备周期短,使用的原料价廉易得,且无需特殊设备,适合规模化生产,具有工业应用价值。
公开日期2014-07-16
申请日期2011-11-09
状态授权
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/44335]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院上海硅酸盐研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
徐军,郑丽和,王庆国,等. 一种激光基质晶体材料及其制备方法和应用. CN102400223B. 2014-07-16.
个性服务
查看访问统计
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。


©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by CSpace