| 氟硼酸盐体系电沉积因瓦合金箔的工艺研究 | |
| 王二立; 苏长伟; 张郁彬; 何凤姣 | |
| 刊名 | 电镀与涂饰
 |
| 2009 | |
| 卷号 | 第28卷 第2期页码:4-7 |
| 关键词 | 铁镍合金 因瓦合金 箔 氟硼酸盐 电沉积 旋转阴极 电流效率 |
| ISSN号 | 1004-227X |
| URL标识 | 查看原文 |
| 公开日期 | [db:dc_date_available] |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/6678951 |
| 专题 | 湖南大学 |
| 作者单位 | 湖南大学化学化工学院 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王二立,苏长伟,张郁彬,等. 氟硼酸盐体系电沉积因瓦合金箔的工艺研究[J]. 电镀与涂饰,2009,第28卷 第2期:4-7. |
| APA | 王二立,苏长伟,张郁彬,&何凤姣.(2009).氟硼酸盐体系电沉积因瓦合金箔的工艺研究.电镀与涂饰,第28卷 第2期,4-7. |
| MLA | 王二立,et al."氟硼酸盐体系电沉积因瓦合金箔的工艺研究".电镀与涂饰 第28卷 第2期(2009):4-7. |
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